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Optimieren Sie Ihren Microchip-Produktionsprozess mit hochreinen, chemikalienbeständigen Pumpen von Almatec®

Dank jahrzehntelanger enger Zusammenarbeit mit zahlreichen Kunden in der Halbleiterindustrie, sind Almatec Druckluftmembranpumpen die perfekte Pumpenlösung für anspruchsvolle Anwendungen bei der Microchip-Produktion. Spezielle Pumpenserien wurden frühzeitig bei Almatec entwickelt, um die Anforderungen in den Bereichen Zuverlässigkeit, Konsistenz, Effizienz, Reinheit, Langlebigkeit und Sicherheit zu erfüllen. Almatec Pumpen sind heute in nahezu jeder Anwendung von Microchip Produktionsprozessen weltweit zu finden.

Laden Sie das Whitepaper herunter und erfahren Sie, wie Almatec FUTUR Pumpen sicheren und kontaminationsfreien Chemikalientransfer in der Halbleiterproduktion ermöglichen.

Sicherheit, Reinheit und Leistung in Halbleiter-Reinraumumgebungen

 

In welchen Anwendungen können Almatec Pumpen die Microchipproduktion optimieren? Mehr dazu in unserer interaktiven Application Map:

Almatec Pumpen - für die Halbleiterindustrie

Für anspruchsvolle Anwendungen in der Halbleiterfertigung führt Almatec zwei seiner Druckluft-Membranpumpen (AODD) im Portfolio: die Almatec FUTUR Serie und die Almatec E-Serie.

Die FUTUR Serie wurde speziell für den Transfer hochreiner Chemikalien in Halbleiterfabriken entwickelt. Ihr Straight-Through-Flow-Design und die dichtungslose Konstruktion minimieren benetzte Oberflächen und verhindern bewegliche Bauteile im Förderraum. Dadurch wird das Risiko von Partikelbildung und Kontamination deutlich reduziert. Gefertigt aus massivem UHMW-PE oder PTFE ermöglicht die FUTUR Serie den sicheren Transport aggressiver Säuren, Lösungsmittel und CMP-Slurries in der Waferproduktion.

Die Almatec E-Serie ergänzt dieses Portfolio durch eine besonders robuste und vielseitige AODD-Pumpenkonstruktion. Ihr massives Gehäusedesign und die optimierte Strömungsführung sorgen für hohe Betriebssicherheit, reduzierten Luftverbrauch und zuverlässigen Transfer von Prozesschemikalien wie Säuren, Laugen und Lösungsmitteln. Zusammen bieten beide Pumpenserien eine sichere und kontaminationsfreie Lösung für Chemikalienversorgung, Verteilungssysteme und Anlagenprozesse in modernen Halbleiterfabriken.

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 Merkmale und Vorteile E-Serie Futur-Serie
Kompakter und einfacher Aufbau mit wenigen Teilen, geringer Platzbedarf
Gehäuse und Membranen in Massivbauweise, für eine lange Betriebsdauer
Geeignet für Säuren, Laugen und Lösemittel
Voll-PTFE-Membranen aus einem Teil mit optimierter Membrangeometrie
Absolute Metallfreiheit der Kunststoffmodelle (Futur T/H/E)
Berührungslose Kaskadendichtung zwischen den Produktkammern
Keine produktberührten O-Ring Dichtungen
Nur ein produktberührtes Gehäuseteil, da innendurchströmt
Keine Befestigungselemente wie Zuganker oder Spannbänder
Montiert in einer Reinraumlinie
Temperaturbereich bis 200 °C (Futur H) (120°C)
Schmierungs- und wartungsfreies Luftsteuersystem PERSWING P®
Separater Pulsationsdämpfer, auch nachrüstbar ohne Demontage der Pumpe und Rohrleitung
Selbstansaugend
In ATEX Ausführung erhältlich
Optionaler Membran- und/oder Hubzählsensor
Flächendichtende Zylinderventile
Unemfindlich gegenüber wechselnden Temperaturen mit optionalem Dehnungsausgleich
Geringer Geräuschpegel